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CVD金剛石即化學氣相沉積金剛石(也稱作CVD金剛石膜) ，是繼高溫高壓金剛石后,人工合成金剛石領域的又一次具有重大意義的革命。尺寸可以很大，目前能夠批量生產的產品規(guī)格已達直徑120MM,厚2MM,而且結晶質可以和天然LLA型金剛石媲美。CVD金剛石是在低氣壓條件下，CH4, C3H8等含碳氣體經高溫分解。

金剛石的熱學性質表現(xiàn)于金剛石的熱導率極高，室溫下它的導熱率為1000~2000w/m.k，是銅材料的3~5倍，比目前使用的氮化鋁、Cu-W合金、氧化鋁、氧化鈹?shù)炔牧系臒釋矢吆芏?，僅次于天然lla型和高壓合成的Ib高質量單晶。且熱膨脹系數(shù)很小，又是非常好的絕緣材料，因此，CVD金剛石目前在高功率半導體熱管理中具有無可替代的優(yōu)勢，高功率激光二極管和MCMs(多芯片三維組裝技術)是當前CVD金剛石膜熱學應用的兩個主要應用領域。

用在單點金剛石修整工具，多點金剛石修整工具，金剛石修整滾輪;用于棕剛玉和碳化硅砂輪，金剛石砂輪和CBN陶瓷結合劑砂輪的修整。